我院陈蓉教授受邀赴荷兰出席ASD 2017大会并作特邀报告

4月20日至21日，第二届区域选择性沉积研讨会（The 2nd Area Selective Deposition workshop , ASD 2017）在荷兰埃因霍温举行，我院陈蓉教授受邀出席，并在大会上作了题为“基于区域选择性原子层沉积催化剂纳米颗粒设计与可控制备 （Design and synthesis of catalytic nanoparticles via area selective atomic layer deposition）”的报告。

大会上，陈蓉教授首先指出，在催化剂的研究中，设计优化活性、稳定性和选择性的催化剂至关重要。随后，她提到区域选择性原子层沉积（ALD）能够为催化剂设计与精细合成拓展思路，还结合自己课题的工作谈到，基底上的选择性ALD沉积可以通过自组装单分子膜（SAM）完成，证明了SAM可用于调控基底表面活性位点与生长区域，实现金属纳米颗粒以及双金属核壳颗粒可控制备（K. Cao et al., Sci. Rep. 5,8470,2015）。以这种方式，该课题组另一项工作将氧化钴（Co₃O₄）沉积在铂（Pt）纳米颗粒周围，作为一种纳米陷阱，致使Pt纳米粒子的热稳定性大大提高（X. Liu et al., Angew. Chem. 129,1670,2017）。

此外，陈蓉教授在报告中提出了晶面选择性ALD的概念，即在颗粒在特定晶面上优先进行氧化物生长，与依赖于表面材料的选择性生长不同的是，这种ALD工艺对于基底的晶面取向是有选择性的。她指出，已有研究成果表明CeO₂的晶面选择性ALD可用于在Pt纳米颗粒上产生纳米栅涂层。

最后，陈蓉教授总结到，根据目前在此方面的研究结果可以看出，选择性ALD是一种在模型催化剂研究中强有力的可控制备与研究方法。

此项目得到我院国际合作推进计划的经费支持。